文 | 半导体工业纵横
2025年，，，， ，，全球晶圆厂的扩产节奏显着加速，，，， ，，但一个变态征象泛起了：光刻机的出货总量却在下降。。。。。
从目今全球光刻机的市场供应名堂来看，，，， ，，具备商用光刻机批量生产能力的厂商仍高度集中，，，， ，，焦点玩家仅有荷兰 ASML、日本佳能、日本尼康三家； ；； ；；；；海内虽有部分企业实现了光刻机的小批量出货，，，， ，，但因尚未形陋习模� ；； ；；；；坎婺�，，，， ，，暂未纳入本次主流市场的统计领域。。。。。
光刻机三巨头，，，， ，，出货几何？？？？？
ASML，，，， ，，出货约327台
回首过往，，，， ，，2016年及以前，，，， ，，ASML的EUV光刻机年出货量仅1-5台，，，， ，，DUV光刻机年出货量约150台； ；； ；；；；2017年后，，，， ，，EUV出货量逐年攀升，，，， ，，2023年抵达峰值53台，，，， ，，同期DUV出货341台； ；； ；；；；2024年，，，， ，，ASML光刻机总出货量创下历史最高，，，， ，，为418台。。。。。
但2025年这一趋势泛起转折。。。。。凭证ASML宣布的2025财年业绩报告，，，， ，，第四序度新售出光刻系统94台、二手系统8台； ；； ；；；；整年新光刻系统300台、二手系统27台，，，， ，，相比2024年的380台新系统、38台二手系统，，，， ，，出货总量显着下滑。。。。。
分机型来看，，，， ，，EUV光刻系统体现亮眼，，，， ，，销售额同比增添39%至116亿欧元，，，， ，，对应确认48台收入，，，， ，，首台EXE:5200B系统完成现场验收并入账； ；； ；；；；DUV光刻系统则有所承压，，，， ，，销售额同比下降6%至120亿欧元，，，， ，，确认279台收入，，，， ，，首款面向3D集成市场的XT:260系统已交付并确认收入。。。。。两者合计，，，， ，，2025年ASML已确认收入的光刻机约327台，，，， ，，较2023年、2024年显著回落。。。。。
中国市场仍是ASML的主要支持，，，， ，，2025年占其净系统销售额的33%，，，， ，，位居全球首位，，，， ，，但这一比例较2024年的41%有所下降。。。。。为知足中海内存厂商的需求，，，， ，，ASML妄想2026年第四序度推出新款浸润式DUV NXT：1965i。。。。。该机型由1980i系列降规而来，，，， ，，既切合美国出口规范，，，， ，，又能适配中海内存企业的需求，，，， ，，有望为2026年四序度及2027年业绩提供助力。。。。。
展望未来，，，， ，，依据蔡司半导体的扩产妄想，，，， ，，ASML预计2027年EUV出货量将达80-85台，，，， ，，DUV出货量将达380-400台，，，， ，，重回增添轨道。。。。。
尼康+佳能：合计出货约318台
尼康与佳能暂未宣布2025年光刻机准确出货数据，，，， ，，但从两家财报展望中可大致推算。。。。。其中，，，， ，，尼康2025年4-9月半导体光刻机销量为9台，，，， ，，低于去年同期的10台； ；； ；；；；同时，，，， ，，尼康将今年度销量目的从上调前的34台下修至29台，，，， ，，略高于2024年的28台。。。。。
佳能的体现相对稳健，，，， ，，2025年一季度半导体光刻装备销量56台，，，， ，，同比增添7台； ；； ；；；；只管将今年度销量目的从308台下调至289台，，，， ，，但相较于2024年的233台，，，， ，，仍能实现24%的同比增添。。。。。
综合两家目的推算，，，， ，，2025年尼康与佳能合计出货量约为318台。。。。。
据此盘算，，，， ，，2025年全球三大光刻龙头的光刻机总出货量约为645台。。。。。
中国光刻机入口数，，，， ，，下滑！
伯恩斯坦凭证中国海关果真数据，，，， ，，对2025年中国半导体晶圆制造装备（WFE）入口情形举行了回溯剖析。。。。。效果显示，，，， ，，2025年中国晶圆制造装备入口总额达391.66亿美元，，，， ，，同比增添3%，，，， ，，创下历史新高； ；； ；；；；其中12月单月入口额45.08亿美元，，，， ，，环比增添84%，，，， ，，成为整年入口峰值。。。。。
光刻机入口方面，，，， ，，2025年整年入口额与2024年基本持平，，，， ，，仅同比下滑1%，，，， ，，但12月光刻机入口额达23亿美元，，，， ，，创下月度历史纪录。。。。。（相关入口指标包括：沉积、干法刻蚀、光刻机、历程控制系统、质料去除与清洁、其他，，，， ，，以及对应总额和不含光刻的总额）
受美国出口限制影响，，，， ，，ASML预计，，，， ，，2026年中国占销售额的比例将降至20%。。。。。
DUV 是海内光刻机的主要入口品类。。。。。一方面，，，， ，，海内半导体工业正处于成熟制程扩产、特色工艺突破的要害阶段，，，， ，，DUV 的手艺特征可笼罩 7nm 及以上绝大大都制程需求，，，， ，，与工业现阶段生长节奏高度匹配； ；； ；；；；另一方面，，，， ，，EUV 受美国手艺管控无法正常入口，，，， ，，海内企业只能通过加大 DUV 入口，，，， ，，填补先进制程生长受限的缺口，，，， ，，同时包管成熟制程的产能释放。。。。。
近年来海内一连增添光刻机入口，，，， ，，焦点缘故原由有三：
其一，，，， ，，内存芯片制造是入口DUV的第一大应用场景。。。。。海内主流内存企业2025年一连推进3D NAND与DDR4/DDR5内存的扩产，，，， ，，而3D NAND的堆叠层数提升、DDR内存的制程优化，，，， ，，均高度依赖DUV光刻机——尤其是ASML的ArF浸没式DUV，，，， ，，可通过多重曝光手艺实现更高的图形精度，，，， ，，支持海内3D NAND堆叠层数向500层以上突破，，，， ，，同时降低存储芯片的单位本钱。。。。。
其二，，，， ，，成熟制程逻辑芯片生产，，，， ，，也是DUV入口的焦点刚需。。。。。2025年，，，， ，，海内主流晶圆代工企业一连扩产28nm、40nm等成熟制程，，，， ，，普遍应用于消耗电子、物联网、汽车电子等领域，，，， ，，而DUV正是这类制程的焦点光刻装备。。。。。其中，，，， ，，ArF浸没式DUV主要用于28nm（HKC+工艺）的生产，，，， ，，可实现高精度图形曝光，，，， ，，包管芯片性能； ；； ；；；；KrF干法DUV则用于40nm及以上制程，，，， ，，兼顾生产效率与本钱控制。。。。。
其三，，，， ，，特色工艺与功率半导体制造，，，， ，，进一步拓宽了DUV的应用界线。。。。。在功率半导体领域（如IGBT、MOSFET），，，， ，，海内相关企业2025年加速扩产，，，， ，，这类芯片对光刻精度的要求相对较低，，，， ，，尼康、佳能的KrF干法DUV基本可以知足需求，，，， ，，用于功率芯片的基片光刻、栅极图形制作等环节，，，， ，，支持新能源汽车、光伏、储能等领域的功率芯片供应。。。。。别的，，，， ，，在射频芯片、传感器等特色工艺领域，，，， ，，DUV可通过无邪的曝光计划，，，， ，，适配差别芯片的结构需求，，，， ，，填补高端光刻装备缺失的短板。。。。。
谁，，，， ，，拥有最多的光刻机？？？？？
在先进制程芯片的制造国界上，，，， ，，EUV（极紫外）光刻机早已不是 “可选项”，，，， ，，而是决议工业话语权的 “入场券”。。。。。那么，，，， ，，谁拥有最多的光刻机呢？？？？？
自 ASML 在 2016 年正式量产 EUV 光刻机以来，，，， ，，这十年间全球累计交付的 EUV 装备约为 309 台。。。。。其中，，，， ，，台积电独吞 157 台，，，， ，，占比高达50.8%—— 全球一半的 EUV 产能都被这家中国台湾代工厂收入囊中。。。。。紧随厥后的是三星，，，， ，，其工厂内安排了 76 台 EUV； ；； ；；；；Intel 则拥有 35 台，，，， ，，SK 海力士 29 台，，，， ，，美光 5 台，，，， ，，而 2022 年才建设的日本 Rapidus 公司，，，， ，，也拿到了 1 台 EUV 作为先进制程结构的起点。。。。。
台积电 157 台 EUV 的保有量，，，， ，，绝非简朴的 “装备采购”，，，， ，，而是其在先进制程代工领域构建霸权的焦点支点。。。。。从 2019 年首次在 N7 + 工艺中引入 EUV 最先，，，， ，，台积电就将 EUV 与客户需求深度绑定：苹果 A 系列、高通骁龙、英伟达 GPU 等高端芯片的代工订单，，，， ，，险些所有依赖台积电的 EUV 产能。。。。。
三星 76 台 EUV 的结构，，，， ，，折射出其在半导体领域 “双线作战” 的战略逆境：一方面，，，， ，，在逻辑芯片代工领域追赶台积电； ；； ；；；；另一方面，，，， ，，在存储芯片领域维持手艺领先。。。。。不过，，，， ，，这种双重目的导致其 EUV 资源被严重分流。。。。。
Intel 的 35 台 EUV，，，， ，，是其 IDM 转型的“底气”； ；； ；；；；SK 海力士（29 台）和美光（5 台）的 EUV 结构，，，， ，，则聚焦于存储芯片的 “工艺优化”。。。。。日本 Rapidus 的 1 台 EUV，，，， ，，更像是日本政府推动本土先进制程再起的 “破冰之举”。。。。。这家建设于 2022 年的公司，，，， ，，获得了日本政府 5000 亿日元的津贴和 ASML 的手艺支持，，，， ，，目的是在 2027 年量产 2nm 芯片。。。。。
然而，，，， ，，仅仅是EUV的竞争，，，， ，，还缺乏够。。。。。当现有 EUV的工艺极限迫近 2nm 时，，，， ，，ASML 推出的High-NA EUV成为了先进制程竞争的下一个焦点战场。。。。。
ASML 首席执行官 Christophe Fouquet预计High NA EUV光刻机将于2027~2028年正式投入先进制程的大规模量产作业中。。。。。现在在导入新一代图案化手艺上最起劲的是英特尔代工，，，， ，，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。。。。。Fouquet 体现，，，， ，，High NA EUV 光刻机现在正由英特尔等客户测试，，，， ，，效果显示新装备的成像和区分率体现优异，，，， ，，该企业2026 年的使命之一是与客户相助将装备的停� ；； ；；；；奔渥钚』�。。。。Fouquet还提到，，，， ，，ASML 对未来 10~15 年的大致手艺蹊径已有一定的看法，，，， ，，该企业已启动下一代 Hyper NA EUV 的研究。。。。。
早在2023年尾，，，， ，，ASML就向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，，，， ，，型号为TWINSCAN EXE:5000的系统。。。。。英特尔将其作为试验机，，，， ，，于2024年月在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X完成装置。。。。。英特尔宣布，，，， ，，已装置了新的TWINSCAN EXE:5200B系统。。。。。这是现在全球最先进的光刻机，，，， ，，属于第二代High-NA EUV，，，， ，，将用于Intel 14A制程节点。。。。。在ASML的相助下，，，， ，，已完成Intel 14A在英特尔晶圆厂的验收测试，，，， ，，以提高晶圆产量。。。。。
作为ASML第二代High-NA EUV系统，，，， ，，EXE:5200B基于2023年交付英特尔的首台研发机型EXE:5000升级而来，，，， ，，焦点突破在于其0.55数值孔径（NA）的投影光学系统。。。。。 相较目今主流的Low-NA EUV装备（区分率约13nm），，，， ，，EXE:5200B可实现8nm单次曝光区分率，，，， ，，彻底挣脱多重图案化（Multi-Patterning）的重大流程。。。。。
去年3月，，，， ，，三星在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机，，，， ，，型号为“TWINSCAN EXE:5000”。。。。。据悉，，，， ，，三星正妄想加大对极紫外（EUV）光刻装备的投资，，，， ，，购置新一批EUV光刻装备。。。。。同时三星将为晶圆代工部分新增两套最新的High NA EUV装备，，，， ，，三星妄想在2025年底和2026年头划分交付一套，，，， ，，用于其2nm制程的周全生产，，，， ，，其中一套将安排在华城厂区，，，， ，，另一套则可能安排在泰勒晶圆厂。。。。。
去年9月，，，， ，，SK海力士在韩国利川M16工厂乐成引进High-NA EUV光刻机，，，， ，，型号为TWINSCAN EXE:5200B，，，， ，，是全球首款量产型High-NA EUV装备。。。。。
美国银行展望，，，， ，，ASML 2026年High-NA EUV出货量或仅4台，，，， ，，较此前预期镌汰50%。。。。。
值得注重的是，，，， ，，晶圆代工龙头台盛岚工程建设有限公司积电对High-NA EUV光刻机态度审慎。。。。。台积电营业开发及全球销售高级副总裁张晓强2025年体现，，，， ，，只管认可High NA EUV的性能，，，， ，，但该装备价钱凌驾3.5亿欧元（约3.78亿美元）。。。。。现在标准型EUV光刻机仍可支持台积电尖端制程生产至2026年，，，， ，，公司A16（1.6nm级）和A14（1.4nm级）工艺均不会接纳High NA EUV光刻机。。。。。