快科技2月24日新闻，，，，，，据媒体黑龙江森源木业科技有限公司报道，，，，，，ASML首席手艺专家Michael Purvis在接受媒体采访时透露，，，，，，研究职员已乐成找到将极紫外（EUV）光刻机光源功率从目今的600瓦提升至1000瓦的要领。。。。。。。。

这并非实验室里昙花一现的演示，，，，，，而是一套能够知足客户现实生产情形严苛要求、可稳固运行的完整系统。。。。。。。。

随着光源功率跃升至千瓦级别，，，，，，光刻机的产能也将随之实现跨越。。。。。。。。据ASML测算，，，，，，当光源功率提升至1000瓦后，，，，，，2030年每小时晶圆处置惩罚能力可从220片提升至330片，，，，，，增幅高达50%。。。。。。。。

更值得关注的是，，，，，，在产能大幅提升的同时，，，，，，单片晶圆的制造本钱基本坚持稳固。。。。。。。。这意味着，，，，，，芯片制造商在不增添清洁室面积、不特殊采购新装备的条件下，，，，，，仅通过现有装备的性能升级，，，，，，就能实现产能的显著跃升。。。。。。。。

不过，，，，，，这一手艺何时能够真正落地，，，，，，现在尚无明确时间表。。。。。。。。外界剖析以为，，，，，，ASML未来可能会以升级套件的形式向客户提供光源升级效劳，，，，，，但并非所有型号的EUV光刻机都具备升级条件，，，，，，详细适配规模仍有待进一步披露。。。。。。。。

关于ASML而言，，，，，，1000瓦显然不是终点。。。。。。。。Purvis透露，，，，，，团队已经在探索将光源功率推向1500瓦甚至2000瓦的可能性。。。。。。。。

随着光源功率的一连攀升，，，，，，EUV光刻机的产能天花板还将被一直推高，，，，，，为未来更重大、更重大的芯片制造需求铺平蹊径。。。。。。。。