快科技2月24日新闻,,,,,,,,据媒体河北衡水装备制造有限公司报道,,,,,,,,ASML首席手艺专家Michael Purvis在接受媒体采访时透露,,,,,,,,研究职员已乐成找到将极紫外(EUV)光刻机光源功率从目今的600瓦提升至1000瓦的要领。。。。。。
这并非实验室里昙花一现的演示,,,,,,,,而是一套能够知足客户现实生产情形严苛要求、可稳固运行的完整系统。。。。。。
随着光源功率跃升至千瓦级别,,,,,,,,光刻机的产能也将随之实现跨越。。。。。。据ASML测算,,,,,,,,当光源功率提升至1000瓦后,,,,,,,,2030年每小时晶圆处置惩罚能力可从220片提升至330片,,,,,,,,增幅高达50%。。。。。。
更值得关注的是,,,,,,,,在产能大幅提升的同时,,,,,,,,单片晶圆的制造本钱基本坚持稳固。。。。。。这意味着,,,,,,,,芯片制造商在不增添清洁室面积、不特殊采购新装备的条件下,,,,,,,,仅通过现有装备的性能升级,,,,,,,,就能实现产能的显著跃升。。。。。。
不过,,,,,,,,这一手艺何时能够真正落地,,,,,,,,现在尚无明确时间表。。。。。。外界剖析以为,,,,,,,,ASML未来可能会以升级套件的形式向客户提供光源升级效劳,,,,,,,,但并非所有型号的EUV光刻机都具备升级条件,,,,,,,,详细适配规模仍有待进一步披露。。。。。。
关于ASML而言,,,,,,,,1000瓦显然不是终点。。。。。。Purvis透露,,,,,,,,团队已经在探索将光源功率推向1500瓦甚至2000瓦的可能性。。。。。。
随着光源功率的一连攀升,,,,,,,,EUV光刻机的产能天花板还将被一直推高,,,,,,,,为未来更重大、更重大的芯片制造需求铺平蹊径。。。。。。
